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在半導體工業中， “絕對清潔”的要求擴展到設備（臭氧發生器，接觸到的設備），這意味著不會產生顆粒，沒有金屬，離子或有機污染物。目前德國ANSEROS安索羅斯的臭氧發生器以及其他的臭氧處理系統已經可以“絕對清潔”的要求。

為了保證臭氧在半導體工業清洗的應用的可重復性，必須測量液態臭氧濃度，對清洗過程進行控制。

因為臭氧在晶圓清洗過程中的反應與飲用水或者廢水處理中的臭氧反應是一樣的。由于臭氧在水中的吸收與晶片的處理（清洗、光刻膠去除等）通常是兩個獨立的系統，它們之間的距離最大為40 m。因此，應該測量臭氧的衰減速率或至少接近使用點的液態臭氧濃度，以確保過程的可重復性。

高級氧化過程（AOPs）

高級氧化過程（AOPs）, 作為涉及高反應性自由基中間體特別是OHo的產生的水處理過程。即使是高pH值的臭氧，也是AOP的一種。由于臭氧主要通過非選擇性間接途徑與天然水中的大多數有機污染物發生反應，因此AOPs代表了催化這些自由基產生的替代技術，從而加速了有機污染物的破壞。由于自由基在其攻擊方式上相對非選擇性，因此它們能夠氧化所有還原物質，并且不像分子臭氧那樣局限于特定類別的污染物。

適用于高級氧化工藝(AOP）的臭氧水處理系統PAP-SC

在半導體加工中，需要一個完全干凈的臭氧系統。在加工過程中（晶圓/IMEC清洗/RCA清洗/SOM等），任何從臭氧系統排放到半導體表面的金屬和顆粒都會影響晶圓的質量，包括臭氧系統的部件臭氧發生器COM-AD或臭氧分析儀WM，ANSEORS安索羅斯臭氧水系統PAP-SC在與臭氧接觸時完全不含金屬，因此ANSEROS安索羅斯臭氧水處理系統可用于濕法清洗和干法清洗，不管是有酸還是無酸。為了確保安全，ANSEORS安索羅斯臭氧水系統PAP-SC還包括一個臭氧破壞器CAT-HO。其中臭氧發生器COM-AD配合ANSEROS臭氧分析儀及控制系統，可以精準控制臭氧濃度，且雙壁石英管的設計使電極不接觸臭氧，保證了臭氧氣體的干凈。

德國ANSEROS安索羅斯是全球專業的臭氧技術開發制造商，其生產的臭氧發生器和臭氧水處理系統廣泛運用各個行業。

翁開爾是德國ANSEROS安索羅斯中國總代理，擁有近40年的行業經驗，能根據您的需求為您提供專業的解決方案，歡迎致電咨詢。