德國Anseros公司開發的HOXON硅晶體清洗機是半導體工業的新模范。HOXON系統是基于完全生態環保和保證人身安全的綠色科技。我們堅信并遵循著大自然的法則，調整HOXON科技以迎合表面清潔應用的需求。

我們在成功建立HOXON系統，助力于半導體工業這項事業上，擁有超過二十五年的悠久歷史。只要您說出問題，我們已經為您準備了解決方案。我們歡迎您可以與我們的研發人員展開友好的探討：我們可以為您做些什么。

應用領域

晶片清洗，UCT-工藝、無機氧化、光阻材料的去除、去離子水的消毒、原位生物膜的去除、化學氣相沉積的應用、廢水處理、無菌恒溫區域。

技術參數

完全非金屬的系統；

氣相臭氧容量高達270克/立方米；

液相臭氧容量高達100克/立方米；

AOP(高級氧化)清潔。

PAP-SC-200臭氧清潔系統	COM-AD-08臭氧發生器	FM-PRO臭氧分析儀
可移動型臭氧水系統PAP	臭氧破壞機CAT-HO-8000	CAT-HO-8000水相臭氧破壞機

代理資質